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創想VL-5000金屬檢測直讀光譜分析儀

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創想VL-5000金屬檢測直讀光譜分析儀

創想VL-5000金屬檢測直讀光譜分析儀

VL-5000光譜儀可應用于固體金屬樣品的元素定量分析及牌號鑒定。光學系統采用CCD/CMOS檢測器,光譜范圍覆蓋全部典型材料。儀器裝備有開放式氬氣沖洗火花臺設計,適合不同形狀和尺寸的樣品分析。

光學系統

VL-5000直讀光譜儀憑借其高性能及可靠設計,以及創新光學系統,可確保對重要元素的精確鑒定和痕量分析,儀器擁有極低的檢出限及優異的長期穩定性;分析結果準確,重現性好。創想儀器運用檢測器與數字讀出技術相結合,使儀器整體設計優于傳統的電倍增管技術,已逐漸成為金屬制造業加工業鑄造業的重要選擇。

VL-5000直讀光譜儀采用的光學系統設計,其中結合了帶優化像素的固態檢測器技術,好的光柵分光技術,代表了數碼時代的直讀光譜技術。

分光系統

分光系統由于采用多塊線陣CCD/CMOS作為檢測器,實現分析波段內的全譜接收,各個元素分別采用多條譜線分析,綜合輸出,動態范圍大,結果準確。放置的探測器滿足分析波段內的所有譜線接收無一遺漏,實現同一元素多條譜線同時測定,自動選擇輸出。

激發系統

VL-5000光譜儀在每次激發時,光學系統自動進行譜線掃描,確保接收的正確性,除繁瑣的波峰掃描工作。全譜技術自動描跡調整光路,激發樣品時,儀器自動識別每塊CCD/CMOS上的特定譜線,與原存儲線進行對比,確定漂移位置,找出分析線當前的像素位置進行測定。消除因溫度、氣壓、震動等變化而產生的光譜漂移;而傳統使用光電倍增管技術的光譜必須進行手動進精細調節,技術要求很高。全譜技術自動快速尋址,避免了費事費力的手動操作,也避免了人為誤差。

基體

VL-5000光譜儀采用全譜直讀技術,儀器可以非常方便增加譜線增加基體,在不添加硬件設施的情況下,即可實現多基體分析。客戶可以在使用過程中根據實際需要在儀器上增加分析的基體及元素種類,這些工作可以在用戶現場方便完成。相比同類采用PMT技術的光譜儀,則需要大范圍改動硬件,同時由于初始儀器的配置限制,可能無法添加客戶要求的基體或元素。

火花臺設計

VL-5000光譜儀的火花臺進行了全新的設計,除保留了傳統火花臺的優勢外,針對新的應用需求作了相應的優化。火花臺采取了密封式設計,整個火花臺的結構堅固,在儀器持續使用高溫火花激發的情況下保持火花臺結構的穩定。

氬氣系統設計

VL-5000光譜儀的火花臺通過結構設計上的變化改進了氬氣流的噴射方向,大大減少了火花激發殘留物在火花臺上的殘留,同時使火花臺的清潔和維護也變得更為簡單。VL-5000光譜儀保留了開放式樣品臺的設計,使樣品的放置及分析更加簡便,樣品處理也比傳統光譜更加簡單。除電極間隙外,無特別調整要求。

VL-5000光譜儀采用了獨特的噴射電極技術(JET STREAM)。在激發狀態下,電極周圍會形成氬氣噴射氣流。這種技術會帶來以下優勢,激發點周圍的氬氣流保證了激發過程不受外界干擾節省了氬氣的使用,降低了客戶的使用成本。樣品臺無須密封,線材等小樣品也可以非常方便的借助適配器進行分析。抽拉式前罩,使激發臺的清理維護更加方便。

入射光路設計

VL-5000光譜儀的入射光路設計十分簡潔。通過將入射光路與光室系統直接連接,兩道透鏡入射窗口確保灰塵與防護獨立分開,維護清洗變得非常方便,客戶可以在日常工作中自行進行操作。

電路系統

VL-5000光譜儀的電路系統進行了全新的設計。VL-5000光譜儀采用了同步實時數字讀出技術,與傳統的順序讀出技術相比,分析時間和數據的穩定性都會大大提高。VL-5000光譜儀采用了全數字等離子火花光源技術。所有的激發參數可通過用戶界面由用戶根據實際需求自定義進行設置。

VL-5000光譜儀將電路系統與光學系統進行了完全的分離,將電路系統統一置于儀器光室的外部分,這樣的設計使儀器的散熱功能大大提升,同時使儀器的后續維護也十分便捷。

VL-5000光譜儀的操作軟件十分簡單易學,全中文或英文菜單。沒有任何光譜儀器知識背景的操作人員只需簡單培訓,就可進行儀器的使用。同時儀器的設計處處體現了以人為本的設計理念,使儀器的使用和維護處處體現人性化的關懷。

創想VL-5000金屬檢測直讀光譜分析儀

創想VL-5000金屬檢測直讀光譜分析儀


光學系統

①帕邢-龍格結構,羅蘭圓光學系統

②探測器:CCD/CMOS

③光室溫度:自動控制恒溫:34℃土0.5℃外部入射窗口,方便清洗及更換

④漂移校正功能-得益于自動尋峰功能(精確度達到0.1像素)紫外波段靈敏度,⑤得益于全新改良的真空技術

數字等離子發生器

①全數字等離子火花光源技術

②高效得益于緊湊的設計和半導體控制技術高能預燃技術(HEPS)

③激發參數可通過用戶界面由用戶根據實際需求自定義進行設置

優化的樣品臺

①開放式樣品臺設計,滿足大樣品測試要求4mm樣品臺分析間隙

②“噴射電極”技術輕松應對小樣品及復雜幾何形狀樣品低

③氬氣消耗,待機時:無須待機流量定制異性樣品適配器

④不同基體無須更換火花臺優化的雜質排出系統

⑤牢固的銅制樣品臺散熱效果極佳

計算機及讀出系統

①品牌電腦

②處理器:AMD雙核64X25200+內存:1GB DDR 2

③硬盤:>250GB光驅: DVD

④顯示器:19寸液晶顯示器

數據輸出

①數據以多種數據形式存儲可接駁各種標準打印設備

②數據可通過互聯網遠程發送傳輸軟件系統

Windows 7 / Windows10,中文或英文光譜儀操作軟件,可選數據維護程序

尺寸

①臺式:759mm(L)×665mm (W)× 391mm(H)

②重量:48kg

電源要求

AC 220V/50Hz

②最大功率400 w(主機350W,電腦30W)

待機功率60W

10A普通保險絲

氬氣要求

①純氬氣.99.999%;氬氣減壓閥(專配減壓閥)

②氣壓>4MPa;出口儀器氣壓0.5MPa

創想VL-5000金屬檢測直讀光譜分析儀

創想VL-5000金屬檢測直讀光譜分析儀


VL-5000直讀光譜儀可以應用于鋁合金分析,鑄造廠質量控制品質檢測,及金屬工藝品的材質檢測鋼鐵廠檢測電力設備檢測自動閥門檢測,第三方實驗室等。VL-5000直讀光譜儀專業檢測鐵基,鋁基,銅基等基體,基體可添加。

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